三、溶液补充法[12]-[13]

如上所述，对给定的工艺参量v和ω，只需保持坩埚中溶液的浓度不变，就能生长出浓度均匀的晶体。如果在晶体生长时，通过与提拉联动的装置，使具有同样浓度的材料以同样的速率熔化于坩埚中，见图2-20（b），这样可保持坩埚中溶液的浓度不变。于是在工艺参量v和ω不变的条件下，就能生长出浓度均匀的单晶体。

图2-20（c）所示的浮动坩埚法[12]-[13]，是上述装置的变形，其原理相同。补充的溶液是在浮动坩埚的自重（包括重锤）作用下由毛细管进入浮动坩埚的。

这种方法的特点是，将区域熔化方法的原理与直拉法的装置结合起来，图2-20（b）中的熔体，以及图2-20（c）之浮动坩埚中的熔体就相当于区熔方法中的熔区。这个方法实际上是利用了图2-14（b）中曲线之水平部分，因而可以得到溶质均匀的晶体。