晶体生长的物理基础
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二、溶液稀释法[11]

如图2-20(a)所示。一只具有两个熔室的坩埚,其底部有一管道相连,熔室Ⅱ中是浓度为CL的溶液,熔室Ⅰ中是纯溶剂。对k0<1的溶质,在生长过程中室Ⅱ中溶液的浓度愈来愈大,同时其中的溶液减少,液面下降。由于连通管的原理,室Ⅰ中的溶剂就会流入室Ⅱ,于是使室Ⅱ中的溶液稀释。在拉速、转速不变的情况下,若能保持室Ⅱ中溶液的浓度不变,就能生长出浓度均匀的晶体。令室Ⅰ和室Ⅱ的截面面积之和为A1,室Ⅱ的截面面积为A2,如果

图2-20 获得浓度均匀的晶体的方法

则能达到溶质均匀化的目的。