GB 51136-2015 薄膜晶体管液晶显示器工厂设计规范
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2 术 语

2.0.1 薄膜晶体管液晶显示器  thin film transistor liquid crystal display(TFT-LCD)

使用薄膜晶体管作为控制像素开关,采用有源矩阵直接驱动像素方式的液晶显示器。

2.0.2 全自动物料搬送系统  automated material handling system(AMHS)

在一个过程或逻辑动作系统中,一系列相关的自动化设备及装置协调、合理地对物料进行移动、储存或控制的系统。

2.0.3 玻璃基板  glass substrate

由表面极其平整的薄玻璃片构成的液晶显示器件的基本部件。

2.0.4 阵列  array

在玻璃基板上通过成膜、光刻、刻蚀等半导体工艺技术,制作有规则排列的特定薄膜晶体管(开关器件)阵列,以形成数据线、存储电容和信号线的工艺。

2.0.5 彩膜  color filter(CF)

在透明基板上依规则排列红、绿、蓝三基色的图形,只能使所需要的色光通过的滤光片,又称彩色滤色片。

2.0.6 成盒  cell

将已制备好的薄膜晶体管液晶显示器阵列玻璃基板和彩色滤光片玻璃基板组装到一起,使两块玻璃基板之间充有液晶材料,加上适应的电场即可进行图像显示的液晶盒(屏)的工艺过程。

2.0.7 空间管理  space management

为有效利用空间、缩短工作流程,对大到整个厂区的建筑物布局、地下管线规划,小到一栋建筑物内部各个专业间的配置协调而进行的设计。

2.0.8 干法刻蚀  dry etching process

在气相中对基板表面、被蚀刻物质进行刻蚀的方法。

2.0.9 等离子体增强化学气相沉积  plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD)

利用等离子体的活性促进反应,能在较低温度下进行化学气相沉积法的反应。