2.2 零偏置PN结
在一个晶格内,将P型和N型半导体连接在一起就形成PN结。术语 “结” 是指P型和N型半导体所接触的边界接口,此处半导体的两个区域相遇,如图2.5 (a) 所示。假设在每个区均匀掺杂,在P区 (Na) 和N区 (Nd) 杂质的掺杂浓度,如图2.5 (b) 所示。
在室温下,电子 (N区的多数载流子) 从N区扩散到P区,空穴 (P区的多数载流子)从P区扩散到N区。在P型半导体和N型半导体的接触区-结附近,电子和空穴复合,互相抵消,从而在结的两边存在相反的电荷,如图2.5 (c) 所示,我们将其称为耗尽区或空间电荷区。它们就像一座屏障一样,当在特定温度的热平衡条件下,如果没有施加其他额外的能量(如电压),则电子或空穴不能通过节,如图2.5 (c) 所示。
可以看到,由于在结的两侧存在相反的电荷,这样就建立了一个穿越PN结的电场。由于N区比P区的电势高,直接导致结势垒Vj升高,这样就阻止多子流动到另一侧,如图2.5 (d)所示。Vj也称为内建电势。
由于内建势垒的存在,P区的少数载流子——电子,将穿过PN结到达N区,N区少数载流子——空穴将穿过PN结到达P区。因此,由少子 (空穴) 引起从N区流向P区的电流,称为反相漂移电流IDR。同样,由少子 (电子) 引起从P区流向N区的电流,称为正向扩散电流IDF。在平衡条件下,净电流为0。因此,这两个电流IDR和IDF大小相等,方向相反,即:
小提示:此处介绍PN结的意义。
从通俗的角度理解,当没有给PN结施加额外的能量时,耗尽区就相当于一座大山,它横在P型半导体和N型半导体中间,阻挡电流的形成。如果通过外部对PN结两端施加正向能量,使得P型半导体和N型半导体的空穴和电子能自由流动,则就会形成电流。
图2.5 PN结和耗尽层
另一方面,耗尽区越宽 (越厚),所需要施加的外部能量就会越大。如果尽可能地减少耗尽区的宽度,则会减少所需要施加的外部能量。