晶体生长的物理基础
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一、属于溶质非保守系统的生长方法

属于溶质非保守系统的熔体生长方法如图2-13,其典型的是水平区熔法(horizontal zone melting),如图2-13(a)。材料置于水平舟内,水平舟可以移动,首先在籽晶和材料间产生熔区,然后以一定的速率移动水平舟,于是熔区就从舟之一端移至另一端,单晶体就生长完毕。在这个方法中溶质是非保守的,因为生长过程中在晶体-熔体系统中不断地加入了溶质(当熔区移动时,溶质是和材料一起熔化而进入熔体的)。

图2-13 属于溶质非保守系统的熔体生长方法

浮区区熔法(float-zone melting),如图2-13(b),基本上和水平区熔法相同。其差别在于晶体和材料间产生的熔区是靠熔体的表面张力维持的,因而不需坩埚,这样可以避免坩埚本身对熔体的污染,同时这种方法生长的晶体的熔点,不受坩埚熔点的限制。这种方法多用于生长高熔点氧化物单晶体、碳化物单晶体、难熔金属单晶体。其加热方式可用高频感应加热、电子束加热、弧像加热等。我们在1959—1965年间,曾用电子束浮区区熔方法生长了钼、钨、铌单晶体[6]。这个方法的缺点是热应力较大,晶体缺陷较多。

基座法,见图2-13(c),是浮区区熔法和提拉法结合而成的,它保持浮区区熔法的优点,并引入了提拉法的优点,可生长较浮区区熔法直径更大的晶体。

焰熔法(verneuil method),是最先投入工业性生产单晶体的方法,见图2-13(d),用氢氧焰产生高温,在温场中温度相当于晶体凝固点处置一籽晶。粉料由上面漏斗中以一定速率落下,在籽晶上形成熔体,熔体与晶体的界面就是温度为凝固点的等温面,固液界面之上的熔体温度高于晶体凝固点。此时以恒速缓缓下降晶体,熔体就不断结晶,粉料以相应的速率落下,补充熔体,以维持熔体的质量不变,于是就能稳定地生长晶体。在这种方法的生长过程中,溶质是和粉料一起不断地熔入熔体的,因此晶体-熔体系统中的溶质总质量是变化着的,所以是溶质非保守系统。用这种方法生长的晶体如红宝石和白宝石(α-Al2O3),这是工业规模生产的。尖晶石(Al2O3·MgO)、钛酸锶(SrTiO3)、氧化钛(TiO2)、钛酸钡(BaTiO3)等也可用此法生长。