化学气相沉积（chemical vapor deposition，简称CVD）是一种化工技术，指利用加热、等离子激励或光辐射等手段提供能量，使一种或几种气相化合物或单质，在气相或固体基底表面经化学反应形成固态沉积物的技术。CVD技术是近几十年发展起来的新技术，已经广泛用于提纯物质，研制新晶体，沉积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜等材料。目前，CVD已成为无机合成化学领域的一种重要技术。
